裁定指出，陈力铭、吴秉骏、戈一平3人虽坦承犯行，但对犯罪情节、手段、目的的供词前后不一，并对犯罪细节避重就轻，检察官当庭表示全案尚在追查东京威力科创股份有限公司等涉案共犯，又3人（曾）现为同事关系，案发后均有删除通讯软体对话纪录的湮灭证据举措，足认有串、灭证之虞。
合议庭并强调，陈力铭等3人涉犯罪情节为擅自拍摄而重制内含台积电公司内部关于制程、技术等可用于生产或经营之营业秘密资讯，其中部分资讯涉及国家核心关键技术，而此类犯罪事实的调查，需勾稽比对相关通讯软体对话纪录、电磁纪录与共犯间供述，厘清确认全案犯罪细节，原羁押原因仍存在。
因此，合议庭认为，陈力铭等3人所涉犯罪，不仅损及个别企业利益，并危及国家整体安全，权衡刑事司法权有效行使、被告人身自由私益及防御权受限制程度，为确保日后审判及刑罚执行程序得以顺利进行，认仍有续押必要，因此裁定自今年12月1日起延长羁押禁见2个，可抗告。
全案缘于今年8月初，台积电遭外媒踢爆2奈米先进制程机密外泄，引起轩然大波，一名曾于台积电系统整合部门任职的工程师陈力铭，涉嫌勾结台积电现职工程师吴秉骏、戈一平2人，并翻拍数百张2奈米晶片制程、试产参数。
检方追查发现，陈力铭在台积电任职的资历长达8年，离职后跳槽至东京威力科创股份有限公司工作，他为求事业上的突破，陈力铭找上昔日学弟吴秉骏、戈一平及廖姓工程师，要求3人透过远端工作方式登入台积电内网，再将大量机密翻拍给陈男。
检察官侦办认定陈力铭、吴秉骏、戈一平3人涉嫌违反《国家安全法》且侵害「国家核心关键技术」，犯罪嫌疑重大，向法院声押禁见获准，案经1个月火速侦办，高检署于8月27日侦查终结，9月1日移审智慧法院。
